真空烤箱的使用規(guī)范是怎樣的?
2022-03-14(8304)次瀏覽
隨著工業(yè)烘干設(shè)備的普及,真空烤箱,在實(shí)驗(yàn)室中的應(yīng)用中越來(lái)越廣泛。但在真空烤箱的使用過(guò)程中,由于相關(guān)人員的疏忽,以及對(duì)其性能缺乏了解,在使用過(guò)程中可能會(huì)出現(xiàn)一些的問(wèn)題,為了避免這一現(xiàn)象的發(fā)生,就要求用戶(hù)對(duì)真空烤箱的使用規(guī)范有一定了解,那么真空烤箱的使用規(guī)范是怎樣的呢?具體如下:
真空烤箱的使用規(guī)范
真空烤箱主動(dòng)操控形式:放入物料→關(guān)門(mén)→發(fā)動(dòng)程序→抽真空→加熱升溫→恒溫→充氣降溫→烘烤結(jié)束→開(kāi)門(mén)→取料
a、抽真空:選用壓力進(jìn)行操控,真空計(jì)設(shè)置上下限。發(fā)動(dòng)程序后主動(dòng)進(jìn)行抽真空,當(dāng)真空度到達(dá)上限時(shí),停止抽真空;當(dāng)真空度下降到下限時(shí),發(fā)動(dòng)抽真空。整個(gè)抽真空至恒溫結(jié)束均需要選用此方法進(jìn)行真空度的操控
b、加熱升溫:當(dāng)真空度到達(dá)上限時(shí),主動(dòng)發(fā)動(dòng)加熱進(jìn)行升溫。升溫過(guò)程依據(jù)烤箱內(nèi)溫度的不同,選用不同的加熱功率,以到達(dá)提高升溫速度,同時(shí)防止升溫階段加熱層余熱使烤箱內(nèi)溫度過(guò)高的意圖。具體要求操控在設(shè)定值的± 6℃內(nèi)
c、恒溫:當(dāng)烤箱內(nèi)溫度到達(dá)設(shè)定值時(shí)開(kāi)始計(jì)時(shí),以此作為烘烤(恒溫)的時(shí)刻。恒溫階段烤箱內(nèi)溫度操控在± 6℃內(nèi)。
d、降溫:當(dāng)恒溫結(jié)束時(shí),主動(dòng)進(jìn)入降溫階段。降溫方法:選用充氣降溫的方法。腔體具有真空降溫文真空、氮?dú)庋h(huán)降溫的方法兩種方法(真空、氮?dú)饩x用時(shí)刻、壓力進(jìn)行操控,且均可在操控面板中進(jìn)行設(shè)定)。
e、烘烤結(jié)束:以出烤溫度作為烘烤結(jié)束的判別條件(如程序完結(jié)),且完結(jié)時(shí)選用聲光提示的方法作為烘烤完結(jié)的報(bào)警,烘烤結(jié)束時(shí),烤箱腔體內(nèi)保持真空狀況)。
f、等待手動(dòng)充氮開(kāi)門(mén),取料。
g、PLC有權(quán)限暗碼,起到工藝保密作用。
真空烤箱手動(dòng)操控形式:抽真空、充氮?dú)?、加熱、冷卻循環(huán)系統(tǒng)均可以在手動(dòng)形式下獨(dú)立操作、運(yùn)轉(zhuǎn)(不能在正壓充氮下加溫,以防快速膨脹發(fā)作危險(xiǎn))。
真空烤箱參數(shù)設(shè)置
a、溫度設(shè)置:各腔體烘烤溫度、烘烤結(jié)束溫度均選用獨(dú)自設(shè)置的方法,且可調(diào),可調(diào)范圍0~ 180℃
b、壓力設(shè)置:腔體壓力均可獨(dú)立設(shè)置上下限,作為抽真空、充氮?dú)獾牟倏貤l件,設(shè)定范圍:-101.3KPa~10KPa (依據(jù)不同的要求制作不同的真空壓力)
c、時(shí)刻設(shè)置:各腔體烘烤時(shí)刻、抽真空時(shí)刻、充氮?dú)鈺r(shí)刻均可獨(dú)立設(shè)置
d、降溫循環(huán)次數(shù)設(shè)置:各腔體降溫時(shí)循環(huán)次數(shù)可獨(dú)立設(shè)置,次數(shù)設(shè)置范圍0~60次。
以上關(guān)真空烤箱的使用規(guī)范就為大家分享到這里,真空烤箱采用PLC觸摸屏操作控制,并設(shè)有連續(xù)保護(hù)裝置。本機(jī)設(shè)計(jì)合理,結(jié)構(gòu)緊湊,安裝調(diào)試方便,適應(yīng)大部分工況條件下安置。
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